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钕铁硼磁体自身的耐蚀性较差，通常需要进行涂层防护才能应用于相关器件。目前磁体的涂层防护技术普遍采用电镀Ni或Zn、化学镀Ni-P等，聚合物涂层如环氧树脂、聚丙稀酸脂、聚醜亚胺等，及树脂与金属混合粉末涂覆等。一些新型链膜工艺，如物理气相淀积(PVD)被应用于高档产品的腐蚀防护上。离子镀膜技术，如真空离子镀A1，是结合了真空蒸键、离子注入和气相沉积技术的一种高技术表面处理方法。该工艺方法是在真空蒸镀的基础上，加上等离子体的活化作用，在惰性气体的辉光放电中将膜材的蒸汽进行离子化，再对离子进行轰击和镀膜的技术。离子镀锅层的结合力和耐蚀性、使用温度都远髙于一般的锌、镍镀层，且外观漂亮。离子键工艺过程对磁体基体本身没有腐蚀，且不会造成环境污染。